リンテックは、産業技術総合研究所（＝産総研）つくばセンター中央事業所内に「リンテックつくばイノベーティブクリエーションセンター」を開設する。ここに、先端半導体の微細回路形成に欠かせないEUV露光機用ペリクル（防塵材料）生産設備を導入し、研究開発と本格生産に向けた取組みを推進する。
　先端半導体の微細回路形成にはEUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）露光機が用いられるが、露光機の性能向上に伴い、フォトマスク（回路パターンの原版）への異物の付着を防ぐペリクルは、耐熱性、耐久性、透過性など、より高い性能が求められている。
　リンテックグループは以前から、CNT（カーボンナノチューブ） シートの開発を手がける米国・テキサス 州の研究開発拠点と、国内の研究開発本部が連携し、CNT製ペリクルの開発を進めてきた。その要素技術を確立した2023年、リンテックは産総研先端半導体研究センターと、EUV露光機用ペリクルの評価技術と半導体ミッドエンド向け製造プロセス技術の共同研究に着手し、翌年にはCNT製ぺリクル膜の生産設備を開発。その後も引き続き製品開発と品質改良を進めながら、併せて、製造条件の最適化なども含めた量産プロセスを検討してきた。そして今回、新たな研究開発・生産拠点として「リンテックつくばイノベーティブクリエーションセンター」の開設を決めたもの。
　同センターには、自社開発のCNT製ペリクル膜生産設備と関連設備などを導入。まずはフルサイズのペリクルサンプルの供給を開始するとともに、付帯設備なども段階的に導入していく。産総研先端半導体研究センターとの次世代半導体デバイス製造向けナノリソグラフィ要素技術に関する包括的な共同研究を継続するとともに、CNT製ペリクルについてユーザーからのサンプル評価を得ながら、さらなる製品開発と本格生産に向けた取組みを加速させる。